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IC光刻设备、FPD曝光设备

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介绍详情

IC光刻设备、FPD曝光设备

概要:汇博光学制造的精密紫外光学薄膜器件均采用高能离子辅助沉积工艺,可以耐受400℃以上的高温且性能稳定。
概要:汇博光学制造的精密紫外光学薄膜器件均采用高能离子辅助沉积工艺,可以耐受400℃以上的高温且性能稳定。
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        IC半导体光刻设备及FPD平面显示器曝光设备中使用的精密光学薄膜器件对光学镜面精度和光谱反射效率、耐用性有极苛刻的使用要求。光源长时间不间断工作,紫外线的辐射损伤对反射镜的膜层寿命要求高。汇博光学制造的精密紫外光学薄膜器件均采用高能离子辅助沉积工艺,可以耐受400以上的高温且性能稳定。

   产品类型:大尺寸椭球反射镜、45°平面反射镜、介质膜反射镜、铝增强反射镜、365nm通带滤光片、截止滤光片、分色镜、光配向反射镜。

 

  

 

 

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